Высокоточный дизайн матрицы: матрица состоит из круглой входной секции, секции формования входа, секции деформации, секции калибровки и выходной секции. Соотношение длин каждой секции точно (например, круглая входная секция 0.2L, секция формования входа 0.2L, секция деформации 0.3L, секция калибровки 0.1L, выходная секция 0.2L), что обеспечивает непрерывность процесса скручивания, прессования и деформации проводника и предотвращает концентрацию напряжений, вызванную резкими изменениями формы матрицы.

Метод осаждения CVD с использованием горячей проволоки: Источник возбуждения (горячая проволока) пропускается через отверстие в форме и размещается в осевом положении. Путем регулирования таких параметров, как температура горячей проволоки, скорость потока газа и время реакции, достигается равномерное осаждение наноалмазного покрытия. Например, на стадии зародышеобразования давление реакции горячей проволоки регулируется в пределах 4,0～6,0 кПа, подается смесь газов водорода и метана, скорость потока составляет 1800～2300 мл/мин, объемная доля метана составляет 2～4%, а время реакции составляет 40～80 мин; на стадии роста давление реакции регулируется в пределах 2,5～3,5 кПа, скорость потока смешанного газа и объемная доля метана регулируются соответствующим образом, а время реакции составляет 300～420 мин.

Суперпрочный и износостойкий: Наноалмазное покрытие имеет твердость более 5000HV, что более чем в 3 раза превышает твердость традиционных твердосплавных форм, износостойкость увеличена более чем в 10 раз, что значительно продлевает срок службы формы.