Процесс подготовки формы с наноалмазным покрытием

Метод осаждения CVD с использованием горячей проволоки:
Источник возбуждения (горячая проволока) пропускается через внутреннее отверстие матрицы и размещается в осевом положении. Путем регулировки таких параметров, как температура горячей проволоки, скорость потока газа и время реакции, достигается равномерное осаждение наноалмазного покрытия. Например, на стадии зародышеобразования давление реакции горячей проволоки регулируется до 4,0～6,0 кПа, подается смесь водорода и метана, скорость потока составляет 1800～2300 мл/мин, объемная доля метана составляет 2～4%, а время реакции составляет 40～80 мин; на стадии роста давление реакции регулируется до 2,5～3,5 кПа, скорость потока смешанного газа и объемная доля метана регулируются соответствующим образом, а время реакции составляет 300～420 мин.
Технология плетения из множества горячих проволок:
Для замены одной прямой горячей проволоки используется плетеный провод, состоящий из нескольких горячих проволок, что позволяет добиться равномерного покрытия алмазным покрытием внутренней поверхности волочильной фильеры большого диаметра (внутреннее отверстие 15～70 мм). В зависимости от волочильной фильеры с различными диаметрами выбираются различные комбинации плетеных проволок, чтобы обеспечить равномерность и хорошее качество алмазной пленки.
Технология наноалмазного композитного покрытия:
Традиционный алмаз и наноалмаз органически объединены. На основе осаждения традиционного алмазного покрытия осаждается слой наноалмазной пленки in-situ для образования композитного покрытия. Это обеспечивает покрытию преимущества износостойкости и высокой адгезии, а также гладкой поверхности, низкого коэффициента трения, пониженной твердости и легкой шлифовки и полировки. Размер частиц наноалмазного покрытия составляет 20～80 нм.